CVD/PECVD系统
两通道CVD系统本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛，该设备适用于各种CVD实验。
双炉体滑动管式炉KJ-T1400D-II滑动管式炉可以在真空、大气、空气等不同环境下加热样品。主要应用多种材料的快速退火、硅化、扩散、结晶、致密化等。
管式PECVD等离子气相沉积系统主要用于金属粉末气相沉积镀膜。
PECVD旋转管式炉适用于粉体材料的表面薄膜沉积，在大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。
化学气相沉积系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
LCD触摸屏CVD高温炉这款CVD炉可用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
三温区CVD管式炉该设备适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
自动压力控制CVD管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、CVD实验、真空沉积、材料成分测定场合。
1100度CVD管式炉郑州科佳生产的这款CVD管式炉广泛用于样品在真空和气氛条件下的烧结、涂层、纳米管研究、钎焊、退火等实验，适用于高校、研究机构实验室和工矿企业进行CVD工艺的科研和实验。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
