管式炉
真空气氛管式炉KJ-TG600系列真空气氛管式炉工作温度区间450℃至500℃，可抽真空和充入各种保护气体或破坏性气体等特点，广泛用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产。
大管径旋转管式炉石墨、磷酸钛钠，分子筛（psa分子筛）、碳纳米管等材料的高温烧结、化学气相沉积（CVD碳包覆）、CVD碳调孔等工艺所需烧结设备
（连续进出料）双温区立式流化床该流化床管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计，可应用于小型钢件的退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
真空气氛旋转管式炉该设备专业应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或气氛保护下进行烧制。
实验型迷你管式炉该迷你管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特殊合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测量场合。
1600℃双温区高温气氛管式炉KJ-T1600-L60LB2双温区高温气氛管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
RTP真空快速退火炉真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。
（带预热炉）大立式管式炉 该高温立式管式炉主要由物料预热炉、反应炉、气体预热炉、控制柜、供气系统、进料装置、收料装置组成。炉膛采用轻质陶瓷纤维精制炉膛，左右滑动开启方便，可在多种惰性气氛条件下进行烧结。
1300℃多工位管式炉广泛用于材料或化学实验室，以在真空或其他气体条件下烧结所有类型的新材料样品。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
