管式炉
触屏三温区管式炉三温区开启式管式炉，每个温区分别由三个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度来应用不同的实验场景。
1200℃真空热压机此款设备专门设计在真空或是气体保护环境下对粉体或是多层晶片进行压制。
真空管式热压炉适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理。
（高温区和升华区为一体）旋转管式炉主要针对于粉体物料的混烧，并可在多种粉末表面镀膜。
1000℃高温双管管式炉1000℃高温双管管式炉可在氧环境或惰性气体环境下对样品进行热处理，最高温度可达1000℃，其炉管法兰上安装有压力表和卸压阀，所以当管内气压高于设定值时，卸压阀会自动打开排气，使管内气压达到设定值。所以特别是对于超导材料及介电材料的探索研究，此款高温高炉是一款物美价廉的实验工具。
1200℃双温区高温管式电阻炉KJ-T1200-60-S6008LK2双温区真空气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
1200℃可倾斜旋转管式加热炉KJ-T1200-S6010LK1-XQ可倾斜旋转管式加热炉是郑州科佳电炉研发的一种新型电炉，主要运用于粉末冶金，陶瓷磨料，耐火材料，锂电正负极材料，稀土纳米新能源等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。如果您需要保持物料的单颗粒结构（如在干燥或煅烧物料时），旋转管式炉是您更好的选择。持续不断的管旋转运动和保护气的应用将为您带来良好的处理结果。
四温区立式管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如有机质热解（或裂解）、碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1100℃多工位管式炉本系列产品是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的专用设备。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
