快速退火炉
RTP真空快速退火炉真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。
双炉体滑动管式炉KJ-T1200S-II滑动管式炉可以在真空、大气、空气等不同环境下加热样品。主要应用多种材料的快速退火、硅化、扩散、结晶、致密化等。
可滑动三温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验，是低成本快速热处理的理想设备。
RTP快速退火炉该定制RTP快速退火炉采用红外灯管加热，最快升温速度为 50°C/秒，是CVD法生长大尺寸二维石墨烯的常用设备，专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达3"）退火而设计。
1200℃RTP滑动式快速退火炉KJ-1200T-S6015LK1-H系列滑动式快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
