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RTP真空快速退火炉

RTP真空快速退火炉

型号:KJ-TRTP1000

简介:真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下,对样品进行快速热处理,主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,如:薄膜沉积,不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。

产品简介

真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下,对样品进行快速热处理,主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,如:薄膜沉积,不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。

性能特点

  • 卤素灯加热 升温速度快
  • 底部滑轨设计 实现快速冷却
  • 30段高精度数字可编程

加热元件采用卤素灯加热,升温速度可达50℃/秒

炉子的底部安装有一对滑轨,可使炉子从炉管的一侧滑动到另一侧,以实现快速加热和快速冷却

30段高精度数字可编程温度控制器,控温精度高,可达±1℃

技术参数

技术参数

处理晶圆尺寸:2英寸 处理晶圆尺寸:4英寸 处理晶圆尺寸:6英寸
炉管外径 100MM 炉管外径 110-150MM 炉管外径 180MM
加热区尺寸 200MM 加热区尺寸 300MM 加热区尺寸 400MM
更多尺寸可根据客户需求定制
产品名称 RTP 快速退火炉
工作温度 900℃
控 制 器 LED(可选配LCD触屏)
炉 膛 开启式 滑道式
炉管尺寸 根据需求尺寸定制
加热元件 卤素灯
升温速率 ≤50℃/S
热 电 偶 根据实际需要设计来配
温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器
特殊要求 具体细节可根据客户需求定制(详情欢迎来电咨询我们)
1、可定制真空系统
2、可定制气路系统
3、其他特殊工艺需求



配置功能可选

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