管式炉
1200℃立式管式气氛炉KJ-T1200-S5010LK1-L立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
三聚氰胺管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，三聚氰胺、尿素等化学实验的烧结分析，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1400℃三温区真空气氛管式炉KJ-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
1400℃双温区真空管式气氛炉KJ-T1400-L6008LB2双温区管式气氛炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
1400℃多功能旋转管式炉它是专为烧结无机化合物（例如矿物颗粒和电池材料）而设计的，并且具有更好的均匀性。根据不同的实验，多加热区，冷凝器和尾气收集设备可以作为可选部件。
双温区立式管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
（不锈钢炉管）立式管式炉主要适用于大专院校实验室、工矿企业实验室，用于金属、陶瓷等的化学分析、物理测定、烧结溶解、小型刚性零件的加热、焙烧、热处理等。
1600℃真空管式气氛炉KJ-T1600-L6010LB1真空管式气氛炉有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
1200℃多工位管式电阻炉KJ-T1200-S5006LB1-D多工位管式烧结炉还可以倾斜旋转，使物料充分受热，主要为煅烧无机化合物获得较好的一致性而设计。特别对锂离子电池负极材料的制备效果极好，可提高导电性。或者应用在粉体材料上涂层，如LiFePO3, LiMnNiO3等材料的研究和开发实验室。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
