管式炉
带蒸汽发生器管式炉活性碳管炉主要用于实验室和企业对制备活性炭进行物料样本分析或者大量制备，可根据产量或者生产条件进行设备定制。
可滑动三温区管式炉应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验，是低成本快速热处理的理想设备。
1200℃三温区管式气氛炉KJ-T1200-S6012LK3三温区管式气氛炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，可处理直径小于270mm的半导体样片。主要应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 是各大材料实验室常备的理想设备之一。
五温区倾斜旋转管式炉主要用于无机化合物（矿粒和电池材料）的均匀烧结，是粉末冶金，陶瓷，耐火材料，锂电正负极材料，新能源等行业颗粒粉末烧成、煅烧，测定材料在一定气氛条件下的专业设备。
1600℃倾斜旋转管式炉每个温区分别由三个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成温度梯度或是形成较长的恒温区域。
1600℃小型立式高温管式炉KJ-T1600-S5006LK1-L立式管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1200°C三温区真空管式炉可供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用应用于半导体，纳米技术、碳纤维等新型材料新工艺领域，也可用于CVD镀膜。
1200℃立式管式炉应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。
三温区金属内胆回转炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用,用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
