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管式PECVD等离子气相沉积系统

管式PECVD等离子气相沉积系统

型号:KJ-TPECVD1100-S80CK3

简介:主要用于金属粉末气相沉积镀膜。

产品简介

主要用于金属粉末气相沉积镀膜。

性能特点

  • 气密性好
  • 温场均衡
  • 可倾斜可旋转

炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好

采用多晶纤维炉膛材料,材料保温性能好、反射率高、温场均衡

炉体可倾斜,炉管可正、反转且转速可调,使物料动态加热,受热更均匀、和所通气体可充分接触反应

技术参数

技术参数

产品名称 管式PECVD等离子气相沉积系统
旋转管式炉部分
产品型号 KJ-T1200
加热区长度 660mm(220+220+220mm三温区)
(其他尺寸可根据客户需求定制)
炉管材质 高纯石英管(变径管)
炉管尺寸 变径管
两端尺寸OD:80mm* 400mm
中间尺寸OD:150mm* 400mm
总长1200mm 炉管中间部分焊接扬料板

(其他尺寸可根据客户需求定制)
工作温度 ≦1100℃
最高温度 1200℃
测温元件 3支N型热电偶分别控温
温控系统 触屏显示,16段可储藏曲线,30段PID微电脑可编程自动控制,能储存和拷贝数据
保温温控精度 ±1℃
温控保护 具有超温和断偶保护功能
升温速率 建议0-10℃/min
加热元件 合金电阻丝
密封系统 该炉炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好
法   兰 水冷密封法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀,方便拆卸,放取材料
倾斜结构 可倾斜倾斜角0-15°(倾斜角可调)方便进出料
旋转结构 可 360 度旋转,
转速0-15转(速度可调)
材料在炉膛内均匀受热
真空系统部分
名称 分子泵组:
旋片泵+分子泵
主要参数 极限真空度6.7*10-3Pa(包含KF25接口、真空挡板阀和可移动箱体)
真空显示 实时显示真空度
旋转密封 磁流体密封,保证旋转过程中还能抽真空
气路系统部分
名称 三路质量流量计
气路 三路
流量控制 液晶触摸屏控制,数字显示
进出气口 三进一出,内置精密混气罐
等离子射频器部分
名称 射频自动匹配器
匹配功率范围 0-500W
工作频率 13.56MHZ+0.005%
控制模式 手动/自动


管式PECVD等离子气相沉积系统实拍

管式PECVD等离子气相沉积系统实拍

 

配置功能可选

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