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三温区CVD管式炉

三温区CVD管式炉

型号:KJ-TCVD1600-L80LB3

简介:该设备适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。主要用于大学,研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

产品简介

该设备适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。主要用于大学,研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

性能特点

  • 高纯氧化铝纤维炉膛
  • 双层外壳结构 配备冷风系统
  • 可无人值守情况下操作

发热元件采用优良MoSi2,炉膛采用陶瓷纤维材料,保温性能好,经久耐用,抗拉强度高,无杂球,纯度高,节能效果明显

双层钢制外壳,带双冷却风扇,炉体表面温度安全不烫手,一体式不可打开炉门,保温效果好

内置PID自动调节功能,具有过热和断开热电偶断开保护; 超温保护和报警允许在无人值守的情况下操作

技术参数

技术参数

加热系统(管式炉)
最高温度 1700 
工作温度 1600
显示 LED显示屏
管径 80mm(外径)(其他尺寸可按客户需求定制)
管材 刚玉管
热区长度 220+220+220mm
(其他尺寸可按客户需求定制)
加热元件 硅钼棒
加热速率 建议0-10℃/min
温度控制
 
● PID自动通过SCR(可控硅整流器)控制功率,相位角触发,限流电阻器。
● 30个可编程段,用于控制加热速率、冷却速率和停留时间。
● 内置PID自动调节功能,具有过热和热电偶损坏保护功能。
● 超温保护和报警,允许在无人值守的情况下操作。
热电偶
3个热电偶(测量和温度控制功能),位于每个热区的中间(管道外侧)
1个热电偶(仅测量温度),位于管内。
温控精度 ±1℃
炉膛结构
双层钢制外壳,带双冷却风扇,用于冷却炉体表面温度
一体式不可打开炉门。
真空法兰 带阀门的不锈钢真空法兰
供气系统
4通道质子流量计: 一个气体混合罐安装在底部壳体上,带有液体释放阀
底壳左侧安装4个不锈钢针阀,控制4种气体混合
真空泵+真空计系统
真空泵+真空计 配备旋转叶片泵,使真空度达到10Pa(冷却状态)


3温区管式CVD系统实拍图

注意事项:
1、设备炉膛温度≥200℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;
2、设备使用时,炉管内压力不得超过0.02MPa(绝对压力),以防止压力过大造成设备损坏;
3、当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压 相当,保持在常压状态;
4、在对样品加热时,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,绝对压力表读数不要大于0.02MPa,必须立刻打开排气端阀门,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)。

配置功能可选

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