化学气相沉积系统(CVD)
碳纳米管/纳米线CVD生长炉这种碳纳米管/薄膜CVD设备可以实现连续和不间断生长。
LCD触摸屏CVD高温炉这款CVD炉可用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
化学气相沉积系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
两通道CVD系统本CVD系统带水冷法兰双路流量计并配有双极旋片泵、水冷机、数字真空计且该CVD系统可抽真空、通气氛，该设备适用于各种CVD实验。
双炉体滑动管式炉KJ-T1400D-II滑动管式炉可以在真空、大气、空气等不同环境下加热样品。主要应用多种材料的快速退火、硅化、扩散、结晶、致密化等。
CVD 化学气相沉积系统CVD 管式炉系统由：管式炉加热区系统，质子流量计供气系统，真空系统和气体定量系统组成。适用于 CVD 工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO 纳米结构的可控生长、陶瓷电容 (MLCC) 气氛烧结等实验。
高温CVD系统主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。适用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
低真空CVD系统此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
三温区CVD系统该CVD系统广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
