产品简介

主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。适用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

性能特点

可控硅自动控温，移相触发，30段可编程PID智能控制

双层炉壳结构，装有风冷系统用于降低壳体表面温度，保证了操作人员的安全。

不锈钢双层密封法兰，两端可调节法兰支撑结构，延长炉管使用寿命

过热和断偶保护，超温保护蜂鸣器警报

产品名称	高温CVD系统
产品型号	KJ-T1600
结构	碳钢外壳双层氧化铝纤维板 1600度氧化铝纤维板 1800度氧化铝纤维板冷却风扇
炉管	刚玉管OD.80mm×Len.1000-1200mm 外径80mmx长度1000-1200mm （其他尺寸可按客户需求定制）
密封	带胶圈法兰（带有指针式压力表）
加热区长度	440mm （其他尺寸可按客户需求定制）
工作温度	≤1600℃
温度传感器	B型热电偶
温度控制	可控硅自动控温移相触发 30段可编程PID智能控制，过热和断偶保护超温保护蜂鸣器警报
加热速率	建议：≤10℃/min
控温精度	+/-1℃
加热元件	硅钼棒