产品简介

这种碳纳米管/薄膜CVD设备可以实现连续和不间断生长。

性能特点

最高温度为1400℃，可在0-1400℃之间连续调节，热场垂直分布，两点控温

可测量炉内注液口喷嘴温度，法兰已改为铠装法兰，方便测温

炉管下方增设水箱，材质为不锈钢。水箱采用梯形结构设计，方便放线操作

设备名称	碳纳米管/纳米线CVD生长炉
设备型号	KJ-T1400V
高温炉壳体	双层壳体结构，带风冷系统，内炉膛表面涂有进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度
加热元件	硅碳棒
最高工作温度	1400℃
连续工作温度	≤1300℃
升温速率	建议≤10 ℃/min
炉管材质和尺寸	刚玉管: 外径 80mm x 长1500 mm （其他尺寸可根据客户需求定制）
加热区长度	700mm+400mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
热电偶	S型热电偶进行测温和控温
控温系统	PID30段程序化控温
控温精度	+/- 1 ℃
不锈钢法兰	仪器内附有一套不锈钢真空法兰（安装有不锈钢针阀和机械压力表），铠装法兰可用于将热电偶延伸到进口处测量其温度
售后服务	质保一年，终身保修