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自动压力控制CVD管式炉主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、CVD实验、真空沉积、材料成分测定场合。
1100度CVD管式炉郑州科佳生产的这款CVD管式炉广泛用于样品在真空和气氛条件下的烧结、涂层、纳米管研究、钎焊、退火等实验，适用于高校、研究机构实验室和工矿企业进行CVD工艺的科研和实验。
1000℃真空热压炉科佳真空热压机由一套分体式立式管式炉以及一套石墨压杆组成，配有5000kg数字电动压力机，其真空腔体为一个直径为100mm的石英管。该设备最大压力为5ton，是为在真空和高压下生产致密复合材料而设计的。
1100度双温区滑道CVD这款双温区滑道CVD管式炉采用滑道设计，可以通过导轨左右滑动实现物料的快冷和快热；可同时连接6种气源，气体流量采用触屏6路质量流量控制器进行精确测量和控制。该高温CVD设备主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
1200℃箱式淬火炉该箱式炉主要用于金属材料淬火热处理，材料导热性测试等。
1600℃底部装料马弗炉这款底部装料马弗炉工作温度≤1600℃。紧凑型炉腔设计，带升降托盘，炉底可升降。该高温箱式升降炉是研究实验室中进行材料退火和烧结的理想设备。
1000℃真空热压炉适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难容金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高温烧结，也可用于粉末和压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
外热式升降真空炉 该真空炉使用硅钼棒为加热元件，工作温度高达900℃。采用底部升降结构，炉门可以平行移动，方便客户取放物料。该设备结合了真空/大气和高温加热，适用于粉末冶金和功能陶瓷等新材料的高温热成型，以及透明陶瓷、工业陶瓷和其他金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结。
手动开启式小型台车炉该台车炉是专为中小型工件的热处理工艺设计，具备结构紧凑、操作便捷的特点。主要用于材料烧结、热处理和材料分析与测试，如陶瓷材料烧结、磁性材料、粉末冶金材料、稀土材料、贵金属材料等的烧结，对各种金属材料进行退火、回火等热处理。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
