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（炉管可更换式）高温回转炉此旋转管式炉在使用过程中，可根据需求更换炉管，炉管可选-可采用氧化铝陶瓷管（工作温度≤1300℃），碳化硅管（工作温度≤1300℃）和石英石管(工作温度≤1100℃）。炉体采用氧化铝多晶纤维材料，温场均衡，双层炉壳，配有风冷系统，可快速升温；炉体可倾斜0-10°(按钮控制)，炉管可360度旋转。
1600℃高温立式管式炉1600℃高温管式炉广泛应用于各种反应温度在1600℃左右的CVD实验；还可用于真空烧结、气氛保护真空烧结、电池材料、纳米相关材料的制备等。
加装冷凝收集罐的高温回转炉加装冷凝收集罐的高温回转炉是根据用户需求定制的一款旋转管式炉，右侧加装动静密封装置，加装冷凝收集罐。结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛，炉体可倾斜，炉管采用等径高纯石英管，炉管可以360℃旋转，可以让物料在旋转过程中充分转动，使物料受热更均匀，达到更好的实验效果。高温回转炉用于高校、科研院所、工矿企业做石墨烯的生长、高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验等。
三温区可通气氛旋转管式炉该设备专业应用于电池磷酸铁铝等部分正极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或气氛保护下进行烧制。
生物质管式热解炉
1600度小型管式炉KJ-T1600-80（400）是一款小型管式炉，它可以在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结。
特氟龙料斗三温区旋转管式炉此款回转炉进出料斗采用特氟龙材质，稳定性强，不会与物料发生反应。进料采用螺旋进料器，可随电机工作而旋转，样品前进，因此可以连续处理样品，同时炉管转速可调，用户可以调整样品在加热区的停留时间。
LCD触摸屏CVD高温炉这款CVD炉可用于碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
三温区CVD管式炉该设备适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
