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CVD管式炉该CVD管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、材料的气氛烧结等实验。主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
大尺寸石英管气氛管式炉（三温区）本款三温区管式炉用于在多种温度段下材料的预烧、烧结、高温热解等。
1600℃井式坩埚炉主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。这款井式坩埚炉广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验和批量生产。
1200℃超声雾化热分解炉超声波雾化热分解炉广泛应用于纳米材料制备、电极材料包覆复合工艺等方面。
2000℃石墨真空炉石墨真空炉广泛用于金属材料在高真空、保护气氛下的热处理，也可用于碳化纤维等具有优异隔热性能的特殊材料的热处理。
连续式金属内胆小型回转窑该设备专业应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料调节旋转速度、加热温度等参数，适应不同物料的处理需求。
大管径非金属内胆气氛回转炉该气氛回转炉主要用于对物料进行高温干燥处理，去除水分或挥发性成分，以及在特定气氛环境下，对陶瓷、金属粉末等多种材料的烧结及热处理。
间歇式生产型旋转管式炉该设备应用于分子筛烧结、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料调节旋转速度、加热温度等参数，适应不同物料的处理需求。
1000℃真空箱式热压炉适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难容金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高温烧结，也可用于粉末和压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
