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科佳真空干燥箱该设备适用于烘烤、干燥、低真空密封测试、厌氧处理、应力消除、固化、阶段厌氧测试等应用。
1100℃真空管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测定等场合。
实验型流化床管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
迷你型立式管式炉广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验
PECVD旋转管式炉适用于粉体材料的表面薄膜沉积，在大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。
(含预热炉)三温区旋转管式炉整个系统由一个立式管式炉和一个石墨密封设计的主旋转管炉组成，气体进出口配有相关阀门，用户可以从预热炉和主管炉收集气体。
大管径管式炉在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结等热处理。
化学气相沉积系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
1300℃多工位管式炉科佳KJ-TD1200-S80LK1W多工位真空管式炉在使用过程中可水平或者垂直调整工位，根据需求炉管可进行360度旋转，大大提高了其使用性能。可通气氛抽真空，满足多样化实验需求。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
