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1200℃RTP滑动式快速退火炉KJ-1200T-S6015LK1-H系列滑动式快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1000℃高温管式炉KJ-T1000-L80L1 1000℃高温管式炉可在氧环境或惰性气体环境下对样品进行热处理，此款高温高炉是一款物美价廉的实验工具。
1200℃迷你型真空气氛管式炉1200℃迷你型真空气氛管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1200℃管式真空加热炉供实验室、工矿企业、科研等单位作化学分析、物理测定及热电偶检定等加热用。用于分析、测定普通钢或合金钢中含碳及硫量时加热用
三温区CVD设备此款三温区CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
双炉体CVD设备该双炉体CVD系统为定制款，适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
石墨加热真空碳管炉KJ-V220LW-G真空碳管炉是用石墨发热体的高温、高真空电阻炉。最高工作温度可达2000℃~2100℃。本系列产品广泛应用于无机材料（如陶瓷密封件、碳化硅、氧化锆、氧化锌、二氧化铝等）及金属材料（如硬质合金）在真空或保护气氛中烧结制备，也可用于稀土元素及其氧化物的提纯处理及蓝宝石退火处理。同时也适用于大专院校、科研单位进行中试批量生产使用。
1200℃高校实验坩埚炉KJ-V1200-LG高校实验坩埚炉主要用于高校、科研院所、工矿企业煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等
1700℃气氛还原炉1700℃气氛还原炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
