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RTP快速退火炉该定制RTP快速退火炉采用红外灯管加热，最快升温速度为 50°C/秒，是CVD法生长大尺寸二维石墨烯的常用设备，专为半导体基片和太阳能电池或其他样品（尺寸可达3"）退火而设计。
带打印功能箱式高温炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
高真空PECVD设备广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等。
4路浮子流量计可用于搭建CVD系统，也可为样品退火提供所需的气氛环境。
滑道式PECVD系统滑道式PECVD系统由PT-1200T管式炉加热系统、真空系统、质量流量计供气系统、等离子射频电源系统组成。广泛应用于沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）等。
1400℃五温区管式炉 本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、气氛烧结、真空退火﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。
302不锈钢光亮真空退火炉该真空炉用于稀土永磁合金、碳化物、金属陶瓷、高温合金、硬质合金、陶瓷等粉末材料的真空退火和钎焊。该炉配有金属屏蔽室，并配有机械旋转真空泵和扩散泵，以确保6.7x10-4pa（冷态）的高真空度。
1000℃管式炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业，测定材料在一定压力和温度条件下的专业设备
催化剂流化床管式炉炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管为不锈钢金属管，立式开启式炉门结构，磨损管更换方便，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
