产品简介

滑道式PECVD系统由PT-1200T管式炉加热系统、真空系统、质量流量计供气系统、等离子射频电源系统组成。广泛应用于沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）等。

性能特点

PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

温控系统采用PID智能化程序控温，自整定功能并可编制多段升降温程序

产品名称	滑道式PECVD系统
滑轨管式炉部分
产品型号	KJ-T1200-S6044-LK-Z
加热区长度	440mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
炉管直径	直径60mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
工作温度	≦1100℃
最高温度	1200℃
测温元件	N型热电偶
温控系统	PID微电脑可编程自动控制
控温精度	±1℃
温控保护	具有超温和断偶保护功能
升温速率	0-10℃/min
加热元件	电阻丝
滑轨设计	能实现快速升降温
炉膛材料	采用多晶纤维炉膛材料，材料保温性能好、反射率高、温场均衡
密封系统	该炉炉管与法兰之间采用O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好
炉管	高纯石英管
法兰	不锈钢法兰，方便拆卸，放取材料
真空系统部分
名称	高真空分子泵组
主要参数	真空泵极限真空度10-3 pa（包含KF25接口和可移动箱体）
气路系统部分
名称	四路质量流量计
气路	四路
流量控制	每路气体含有针阀单独控制
流量计	质量流量计
等离子电源系统
匹配功率范围	0-500W
工作频率	13.56MHZ+0.005%
控制模式	手动/自动
售后服务	质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围）

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