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高温智能箱式电阻炉箱式热处理炉以高温含钼电阻丝为加热元件，炉膛顶部有排气孔，用于生产过程中废气的排出，炉膛内部带有不锈钢材料制成的5层炉架，保证物料的充分受热。
1200℃石墨烯生长炉KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S石墨烯生长炉是一种特殊的CVD系统，是专门为在金属箔（像铜箔、铝箔等）上生长薄膜而设计，广泛应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究上，特别适用于碳纳米管、碳纳米线、石墨烯的生长。
1200℃真空钎焊炉43L该设备专门为金属器件真空钎焊设计，适用于铝、铜、不锈钢、高速钢、硬质合金和陶瓷等器件的真空钎焊，既可用于同种材料的真空钎焊，亦可用于不同材料之间的真空钎焊，还可用于各种金属材料或器件的正火、回火、退火等热处理工艺，广泛应用于汽车、电子、国防、航空、航天等领域的试验和中试环节。
2路浮子流量计可用于搭建CVD系统，也可为样品退火提供所需的气氛环境。
立式PECVD设备广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
1700℃箱式高温炉KJ-M1700-8LZ箱式高温炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
硅钼棒硅钼棒电热元件产品广泛应用于冶金、炼钢、玻璃、陶瓷、耐火材料、晶体、电子元器件、半导体材料的研究、生产制造等领域，特别是对于高性能精密陶瓷、高等级人工晶体、精密结构金属陶瓷、玻璃纤维、光导纤维及高级合金钢的生产。
1200℃大型气氛烧结炉KJ-A1200-64LZ系列大型气氛烧结炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，小型钢件等加热、焙烧、热处理用。
1600℃三温区管式高温炉KJ-T1600-L6012LB3三温区真空气氛管式炉可以在热梯度下制备功能材料，该设备主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
