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1200℃小型陶瓷纤维马弗炉KJ-M1200-1LZ马弗炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
三温区金属内胆回转炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用,用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
定制立式管式炉此款立式管式炉为客户定制款，主要应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
小型CVD管式炉适用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等试验。
无油真空泵KJ-SPX无油真空泵在半导体、航空航天、石油化工、食品药品、电力、能源、环保、汽车、分析测试仪器等行业生产线上常年连续运行，稳定可靠，为各行业生产和科学研究用户信赖。
1200度三温区CVD管式炉该系统广泛用于各种反应温度在1100℃左右的CVD实验，如半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
1400℃真空烧结炉KJ-V1400-16LGMO真空脱脂烧结炉主要用于高速钢、冷热作工模具钢、马氏体不锈钢、弹性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理、真空脱脂、真空钎焊和真空烧结等。
超声波喷涂炉系统KJ-T1200-PGEP 是一种多功能超声波喷涂炉系统，专为纳米材料的合成而设计。 三个主要子系统（超声波增强气溶胶发生器、管式炉和静电除尘器）用于三个过程，包括气溶胶产生、热分解和纳米粒子收集。 这样的系统实现了合成方法，可以控制粒度、形态和纳米/微观结构。
1200℃高温真空CVD设备高温真空CVD设备是一种特殊的高真空CVD系统，广泛应用于半导体工业中沉积薄膜材料，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
