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连续生产旋转管式炉可连续进出料，主要用于科学实验研究和工业生产。
2000℃真空热压烧结炉主要用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
真空石墨热压炉KJ-V220W-G真空热压炉可以将真空/气氛、热压成型、高温烧结结合在一起，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
立式升降式真空炉该真空炉常用于中高温热处理，比如稀土材料、陶瓷材料、硬质合金等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结处理；以及金属退火、回火、正火、半导体热处理及复合材料成型等。
1700度箱式气氛炉广泛应用于硬质合金、陶瓷、粉末冶金材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理；也可以用于高速钢、合金模具、软磁合金等材料的回火、退火以及钎焊等。
1200度气氛保护炉该箱式气氛炉采用全焊接双壳结构，炉膛采用高纯度氧化铝陶瓷纤维保温材料，保温节能效果好。温度由N型热电偶和智能温控器控制，炉体气密性好，可通氮气、氩气等惰性气体，该高温气氛炉温度场平衡，升温降温快，节能高效，外观精美，实用性强。广泛用于高校、科研院所和工矿企业。
等离子体增强化学气相沉积系统等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。
1200℃气氛马弗炉箱式气氛炉具有温度均匀性高，操作简单，机构紧凑，具有超温保护和报警等优点。该高温气氛马弗炉主要用于材料在保护气体下的高温烧结和退火。
高真空旋转倾斜管式炉此旋转管式炉是一种具有特殊旋转和倾斜功能的高温反应器。专为无机化合物的烧结而设计，如矿物颗粒和电池材料，具有更好的均匀性。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
