产品简介

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术是借助于辉光放电（等离子体）使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。

性能特点

PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性

炉膛采用节能材料制作，整机能耗明显低于传统电炉，节能环保

超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠具有多重防护功能

产品名称		PECVD
产品型号		KJ-PECVD
500W 射频电源
匹配功率范围		0-500W+1%可调
工作频率		13.56MHZ +- 0.005%
反射功率		最大200W
冷却		风冷
管式加热系统
滑道	带滑道，可手动滑动炉膛，实现快速升温或冷却功能
加热区长度	300mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
炉管尺寸	60mm x1600mm （外径x长）（其他尺寸可根据客户需求定制）
炉管材质	高纯石英管
工作温度	≤1100℃
温控系统	智能化30段PID微电脑可编程自动控制
温控精度	±1℃（具有超温及断偶报警功能）
加热速率	建议0~10℃/min
加热元件	电阻丝
可通气体	氮气、氩气等惰性气体
测温元件	热电偶测温
壳体结构	双层壳体结构带风冷系统
真空法兰	不锈钢法兰，带进出气口
供气系统	四路精密质子流量计：测量精度：±1.5% F.S. 通过触屏（定制）来调节气体流量
真空系统	旋片泵，真空度在空炉冷态可达10pa，真空计：数显真空计实时显示真空度，精度高。
控压系统	控压范围 -20kpa 到 20kpa （也可按客户要求设计）
自动化控制	触摸屏界面集成控制炉子，真空泵，质量流量计以及射频电源。炉子部分需要先设好温度时间曲线。集成控制部分可以控制温度曲线的启停，真空度，气体流量，射频功率和射频启停,泄压阀等。