产品中心
双炉管四温区管式炉该设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术、碳纤维等新型材料新工艺领域。主要应用于企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。
高温石墨真空烧结炉该高温真空烧结炉主要应用于金属难熔化合物粉末冶金材料、碳和石墨制品，陶瓷材料等在真空状态下加热烧结，广泛应用于冶金、化工、石油化工、高能物理、航空航天、电子等领域。
1200℃箱式材料分析炉1200℃箱式材料分析炉用于煤炭、电力、化工、冶金、建材、制药、科研等行业和部门进行灰分、挥发分、罗加指数、粘结指数、煤的工业分析和工业热处理。
触屏高温马弗炉该高温箱式马弗炉广泛用于大学，科研院所，工矿企业的高温烧结，材料烧结，成分分析，质量检测和测试。
五温区智能控温管式炉该系列设备安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业做高温烧结金属材料处理实验、质量检测和小批量生产等。
触摸屏旋转管式炉用于粉末冶金，陶瓷，耐火材料，电池，新能源和其他研究中的无机化合物（矿物化合物）的均匀烧结。
带蒸发器定制款CVD系统广泛应用于半导体工业中，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料等的镀膜，该设备可在目标材料表面形成密集的HfCl4涂层.
1000℃倾斜旋转管式炉主要用于多种物料在气氛、真空下的均匀烧结
管式淬火炉用于实验室研究材料相变和微结构性能。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
