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1200度旋转管式炉这是一个带有高纯石英管的30段温度控制器的旋转管式炉。可在高达 1100°C 的各种气体气氛中进行样品退火和烧结。
1200℃五温区开启式管式电阻炉KJ-T1200-S8014LK5五温区开启式管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
自动进出料旋转管式炉主要用于无机化合物（矿粒和电池材料）等的均匀烧结，可以用于粉末冶金，陶瓷，耐火材料，锂电正负极材料，新能源等行业颗粒粉末烧成、煅烧，是测定材料在一定气氛条件下的专业设备。
1200℃双温区旋转管式炉用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或者气氛保护下进行烧制。
混气PECVD设备KJ-T1200 PECVD 是一种 PECVD（等离子体增强化学气相沉积）的管式炉系统，它由 500W 射频电源、带有 200毫米直径石英管的可拆分管式炉、真空泵和三通道质量流量计气体流动系统组成。它可以混合 1-3 种气体用于 CVD 或扩散。
1200度箱式电阻炉此款设备是为了适合客户需求而特别加工设计的，是一款具有较高性价比的中温烧结炉。简化的经典设计工艺，轻质氧化铝纤维的烧结炉膛，采用触摸屏控制，使操作更为简便！
1200度CVD设备KJ-T1200 CVD是一种管式炉，配备100mm直径石英管、真空泵和五通道质量流量计气体流动系统。 它可以混合1-5种气体用于CVD或扩散。该CVD高温管式炉主要用于大学，科研机构和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
1000度立式管式炉该立式管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计，可应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
1200度箱式气氛炉此设备广泛应用于硬质合金、陶瓷、粉末冶金等材料在真空状态、还原性气氛、保护气氛下的热处理。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
