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5G陶瓷介质滤波器钟罩炉可用于氧化锆、氧化铝、介质陶瓷等陶瓷产品间歇式生产烧结工艺。
KJ150-XK实验型氧化扩散炉郑州科佳KJ150-XK是一款管式扩散氧化炉，适用于企业研发、大学及科研院所的科研与教学。可满足多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺。
管式PECVD系统该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等。
高温旋转管式炉高温旋转管式炉可用于锂离子电池正负极材料（磷酸铁铝、锰酸锂、钴酸锂、三元、石墨负极等）、稀土材料，化工催化材料，磁性材料，粉末冶金材料、有色金属材料及高岭土非金属矿物材料的粉体或颗料状物料的实验室煅烧及干燥，高温反应，热处理，碳化等。用户也可根据物料烧成工艺进行气氛处理。
迷你倾斜旋转管式炉主要用于无机化合物（矿粒和电池材料）的均匀烧结，是粉末冶金，陶瓷，耐火材料，锂电正负极材料，新能源等行业颗粒粉末烧成、煅烧，测定材料在一定气氛条件下的专业设备。
五温区双管管式炉五温区双管管式炉设备为我司研发的新一代产品，可根据用户要求定制规格，炉膛材料采用高纯氧化铝多晶纤维，双层壳体结构，外形美观、结构紧凑，可做成单温区、双温区、多温区等，控温系统采用PID智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高，每个温区可以独立控温，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
高温化学气相沉积系统该高温化学气相沉积系统的工作温度为300℃至1600℃，配备真空泵，气体混合装置。采用智能温度控制系统，气体流量控制精度高，易于操作，出色的隔热效果和温度均匀性。 主要用于大学，科研机构和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
1500℃高温CVD 系统此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
双温区管式加热炉科佳双温区管式炉具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业做高温烧结金属材料处理实验、质量检测和小批量生产等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
