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4路质子流量计可用于搭建CVD系统，也可为样品退火提供所需的气氛环境。
触屏三温区管式炉三温区开启式管式炉，每个温区分别由三个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度来应用不同的实验场景。
1200℃真空热压机此款设备专门设计在真空或是气体保护环境下对粉体或是多层晶片进行压制。
真空管式热压炉适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理。
（高温区和升华区为一体）旋转管式炉主要针对于粉体物料的混烧，并可在多种粉末表面镀膜。
四路高温真空CVD设备化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中广泛用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
1000℃高温双管管式炉1000℃高温双管管式炉可在氧环境或惰性气体环境下对样品进行热处理，最高温度可达1000℃，其炉管法兰上安装有压力表和卸压阀，所以当管内气压高于设定值时，卸压阀会自动打开排气，使管内气压达到设定值。所以特别是对于超导材料及介电材料的探索研究，此款高温高炉是一款物美价廉的实验工具。
1200℃高温真空钎焊炉该高温真空钎焊炉主要应用于多种金属材料、特种合金材料的高真空钎焊：如3D打印金属工件类、金刚石工具类、医疗器械类。
1200℃双温区高温管式电阻炉KJ-T1200-60-S6008LK2双温区真空气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
