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1200℃可倾斜旋转管式加热炉KJ-T1200-S6010LK1-XQ可倾斜旋转管式加热炉是郑州科佳电炉研发的一种新型电炉，主要运用于粉末冶金，陶瓷磨料，耐火材料，锂电正负极材料，稀土纳米新能源等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。如果您需要保持物料的单颗粒结构（如在干燥或煅烧物料时），旋转管式炉是您更好的选择。持续不断的管旋转运动和保护气的应用将为您带来良好的处理结果。
四温区立式管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如有机质热解（或裂解）、碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1100℃多工位管式炉本系列产品是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的专用设备。
1200℃立式管式气氛炉KJ-T1200-S5010LK1-L立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1700℃高温节能马弗炉该款箱式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
高真空铝钎焊炉该款真空炉主要用于铝及铝合金叶轮、散热器、波导器件、汽车冷凝器等产品的真空钎焊处理，广泛应用于汽车、电子、国防、航天、航空领域。该炉即适用于同一钢种批量生产，又适用于多规格、多品种单件或小批量生产。
三聚氰胺管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，三聚氰胺、尿素等化学实验的烧结分析，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1400℃三温区真空气氛管式炉KJ-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
1200℃双管滑道式CVD系统专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
