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1400℃箱式热处理炉KJ-M1400-8LZ箱式热处理炉适用于煤炭、焦化产品、化工原料的的焦炭灰分(快灰慢灰)，挥发分，全硫(艾氏卡法)测定煤灰成分分析，饲料，食品，水份分析，沉淀物分析，粘结(罗加)指数及微量元素测定，亦可用于工业生产行业烧结，加热，热处理。
1400度三温区管式炉本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。
氧化铝粉烧结炉（连续进出料）该旋转管式炉是一种具有特殊旋转和倾斜功能的高温反应器。它是专门为无机化合物如矿物颗粒和电池材料的烧结而设计的，具有更好的均匀性。多加热区、冷凝器和尾气收集设备可根据不同的实验选择。
850℃管式炉KJ-T1200-H60K-G系列管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，而且此款设备的炉管抗氧化性较强，可以在高温状态下通入氧气和水蒸气。
1200℃快速升温箱式电阻炉KJ-M1200-12LZ系列箱式电炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，从事电子元器件，新型材料及粉体材料的热处理研发工艺等。
流化床CVD系统主要用于物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺的研究。
1400℃带可视窗箱式炉此箱式炉适用于煤炭、焦化产品、化工原料的焦炭灰分(快灰慢灰)，供实验室、工矿企业、科研单位、院校作元素分析测定和一般小型钢件退火、回火等热处理时加热用，亦可用于工业生产行业烧结、加热、热处理。
箱式化学气相沉积系统应用于大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。广泛用于高等院校、科研单位、工矿企业进行：高温实验、材料烧结、成分分析，质量检测等热处理工作。
带混气系统三温区管式炉 KJ-T1200 CVD是具有80mm直径氧化铝管真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的管式炉，它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
