产品中心
1200℃实验箱式烧结炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解，应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
1600℃高温真空烧结炉KJ-V1600-12LW真空烧结炉主要供大专院校、科研单位针对无机材料在真空（或保护气氛）热压条件下进行烧结处理，以便获得高致密度的产品(如生产高精度氮化硅陶瓷轴承等）。
双炉体滑动管式炉KJ-T1200S-II滑动管式炉可以在真空、大气、空气等不同环境下加热样品。主要应用多种材料的快速退火、硅化、扩散、结晶、致密化等。
1700℃高温管式炉该款高温管式炉主要用于：各种CVD实验，气氛烧结，高温处理；特别适合制备氧化物，硫化物。
石英坩埚用于单晶硅棒的生产和光学玻璃的熔炼。耐温在1450度左右
1000℃高温管式炉KJ-T1000-H6010LK2-G高温管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，其炉管采用镍基合金钢管，最高温度可以耐到1000℃，而且此款设备的炉管抗氧化性较强，可以在高温状态下通入氧气和水蒸气
混气管式PECVD系统 该设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层等领域。
(配置两种炉管)倾斜旋转管式炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火等
定制高温气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，供化学分析物理测定以及金属、陶瓷等的烧结和溶解， 应用于电子元件、粉末冶金、磁性材料、石英材料等产品的排胶、预烧和烧成，也可用于其它材料的热处理工艺等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
