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18137195607
产品简介
该设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层等领域。
性能特点
- 成品质量好
- 沉积效果好
- 微电脑PID控制器，操作简便
- 高真空分子泵组，性能可靠
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
操作简便，控温准确、可靠、安全多段可编程控制，可以简化复杂的试验过程，真正实现自动控制和运行
性能可靠：整体型复合转子，强度高、性能稳定； 洁净无油：采用脂润滑精密陶瓷轴承，无油蒸汽污染
技术参数
技术参数
| 管式炉系统 | |
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炉管尺寸 |
直径60mm(更多规格可按照客户要求定制) |
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加热区长度 |
440mm(更多规格可按照客户要求定制) |
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工作温度 |
≤1100℃ |
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最高温度 |
1200℃ |
| 加热元件 | 电阻丝 |
| 炉膛材质 | 采用高纯氧化铝纤维炉膛材料，不掉粉、材料保温性能好、反射率高、温场均衡，抗热涨冷缩能力强 |
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控温方式 |
智能化30段可编程控制（用户可选配液晶触摸屏显示） |
| 真空系统 | |
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高真空分子泵组，高真空复合真空计
采用KF25系列波纹管和真空挡板阀连接 |
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质子流量计 |
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高精度质量流量计可准确的控制气体流量 出气真空压力表，内置气体混气系统， 不锈钢针阀计管道，标准双卡套接头 |
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射频电源系统 |
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输出功率 |
50-500W可调±1% |
| 售后服务 | 12个月质保、终身保修 |
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
