产品中心
钟罩式液压升降炉（可通气氛）本液压钟罩式气氛炉为底装箱式气氛炉，最高温度1400℃。 本设备炉膛材料为高纯氧化铝纤维，加热元件采用硅碳棒（4面加热，温度场更均匀）。 炉体可抽真空通入大气，物料可在惰性气氛和O2气氛中进行热处理。 液压升降平台+可自由移动的料车（带定位限位），进出料操作非常方便。
石墨稀、碳纳米管材料CVD设备该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。
高真空PECVD设备(六通道)可应用于纳米材料生长，石墨烯生成、金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜等各种薄膜等
1200双温区触摸屏CVD系统KJ-T1200CVD是一种管式炉，配备60mm直径的高纯石英炉管、真空泵和四通道质量流量计+一个浮子流量计气体流动系统。它可以混合1-4种气体用于CVD或扩散。
真空气氛旋转管式炉该设备专业应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或气氛保护下进行烧制。
实验型迷你管式炉该迷你管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特殊合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测量场合。
1600℃双温区高温气氛管式炉KJ-T1600-L60LB2双温区高温气氛管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
RTP真空快速退火炉真空RTP退火炉可在真空、气氛环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。
（带预热炉）大立式管式炉 该高温立式管式炉主要由物料预热炉、反应炉、气体预热炉、控制柜、供气系统、进料装置、收料装置组成。炉膛采用轻质陶瓷纤维精制炉膛，左右滑动开启方便，可在多种惰性气氛条件下进行烧结。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
