产品简介

可应用于纳米材料生长，石墨烯生成、金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜等各种薄膜等

性能特点

PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜

温控系统采用PID智能化程序控温，自整定功能并可编制多段升降温程序

产品名称	六通道高真空PECVD系统
管式炉部分
产品型号	KJ-T1200-S60-6ZH-PE
炉管尺寸	Φ60mmX1400mm （其他尺寸可根据客户需求定制）
炉管材质	石英管
加热区	400mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
工作温度	≤1100℃
最高温度	1200℃
温控方式	N型热电偶
控制方式	30段可编程序控温
控温精度	±1℃
温控保护	具有超温和断偶保护功能
升温速率	建议≤10℃/min
加热元件	含钼电阻丝
炉膛材料	氧化铝多晶纤维
法兰接头	标配配有两个不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统	该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，气密性好。
真空系统部分
名称	真空系统
主要参数	1.采用高真空分子泵组，极限真空度可达10-3pa 2.KF25快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连； 3.数字式真空显示，测量精度高
气路系统部分
名称	六路质量流量计
主要参数	六通道精密质量流量计：触屏控制，数字显示，自动控制。进出气口：6进1出流量控制：手动旋转式调节
等离子电源部分
名称	500W等离子电源
功率范围	0-500W（连续可调）
工作频率	13.56MHZ+0.005%
工作模式	连续输出
冷却方式	风冷
售后服务	质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围）
更多规格可根据要求来定制

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