产品中心
低真空CVD系统此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
摇臂式集成控制PECVD设备科佳高真空PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。该系统主要用于金属薄膜、陶瓷薄膜、复合薄膜、石墨烯等的生长，，如SiOx、SiNx、SiOxNy和非晶硅（a-Si:H）。
带预热系统滑动式PECVD设备是应用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜的一款新的探索工具。
1800℃高温气氛炉该系列产品专为高校、科研院所和工矿企业实验室开发陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料、特种材料、粉末冶金、磁性材料、建筑材料，该气氛炉为金属、非金属和其他化学材料在大气或真空状态下的脱脂、烧结、熔化、分析和生产而开发的热处理专用设备。
微型升华管式炉该套设备系专为使用升华法进行工业用三聚氰胺含量测定而研发的设备；亦可拆分后将各个部分单独使用，适用于实验室的各种真空、气氛、空气环境下的升华、焙烧、烧结、热处理、钎焊等实验。
管式真空热压炉 该系列设备具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和批量生产。
全自动真空钎焊炉真空钎焊炉是在真空（或其它气氛）条件下进行高温热处理的成套设备，应用于不锈钢、铜、钛合金、硬质合金，高温合金等材料的高温钎焊、烧结、回火、退火等工艺。
高真空热处理炉1200℃真空热处理炉主要用于多种材料的真空烧结，退火，回火等。
钼带加热真空热处理炉科佳KJ-V1400-80L钼带加热真空热处理炉主要用于高速钢、冷热作工模具钢、马氏体不锈钢、弹性合金、高温合金、硬质合金、陶瓷材料、磁性材料和钛合金的真空热处理、真空脱脂、真空钎焊、真空退火和真空烧结等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
