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摇臂式集成控制PECVD设备

摇臂式集成控制PECVD设备

型号:KJ-PECVD-L

简介:科佳高真空PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。该系统主要用于金属薄膜、陶瓷薄膜、复合薄膜、石墨烯等的生长,,如SiOx、SiNx、SiOxNy和非晶硅(a-Si:H)。

产品简介

科佳高真空PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。该系统主要用于金属薄膜、陶瓷薄膜、复合薄膜、石墨烯等的生长,,如SiOx、SiNx、SiOxNy和非晶硅(a-Si:H)。

性能特点

  • 更好的沉积效率
  • 所需温度更低
  • 成品质量好

PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性

PECVD对于化学气相沉积需要比普通CVD更低的温度

具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

技术参数

技术参数

产品名称 摇臂式集成控制PECVD设备
产品型号 KJ-PECVD
第一部分滑轨管式炉部分
炉管尺寸 Φ25mmX1600mm(最终长度取决于最终设计)
炉管材料 石英管
加热区 200+200mm (双温区)
工作温度 ≤1100°C
最高温度 1200°C 
温度控制方法 N型热电偶
控制方式 触摸屏控制,带独立摇臂,可根据实际需要调节温控屏角度,使用更方便
温度控制精度 ±1℃
温度控制保护 具有过热和烧毁保护功能
加热速率 建议≤10ºC/min,最大20ºC/min
加热元件 电阻丝
工作电压 交流220V单相50HZ/60HZ(电路电压用户可选择定制)
加热功率 4KW
炉膛材料 氧化铝多晶纤维
炉膛结构 炉体有滑轨,可实现快速加热和冷却
真空法兰 标准配置配有两个不锈钢真空法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统 炉管和法兰采用硅胶O型圈挤压密封,拆卸方便,可反复拆卸,气密性好。
外壳 碳钢或不锈钢外壳
可选 辅助冷却风扇
第二部分真空系统部分
名称 真空系统
主要参数 1.采用中国品牌高真空分子泵组,极限真空度可达6.7x10-3pa(空冷状态)
2.KF25快速连接,不锈钢波纹管,手动挡板阀和法兰,真空泵连接;
3、数字真空显示,测量范围为5×10-50-150mbar,测量精度高
第三部分供气系统部分
名称 四通质量流量计
主要参数 四通道精密质量流量计:触摸屏控制、数字显示、自动控制
1、流量范围:MFC 1-MFC3:10-1000sccm可调 
MFC1:CH4 0-10sccm 
MFC2:H2 0-200sccm 
MFC3:0-200sccm 
MFC4:0-300sccm 
控制精度:±1.5%F.S。 
2.一个混合罐 
3.供气系统左侧安装4个不锈钢针阀,可手动控制4种气体; 
4.进风口和出风口:4进1出 
流量控制:LCD触摸屏 
注:不支持液体或腐蚀气体。
第四部分等离子电源部分
名称 500W等离子电源
功率范围 0-500W(连续可调)
工作频率 13.56兆赫+0.05%
操作模式 连续输出
RF输出阻抗接口 N型,内螺纹(50Ω)
功率稳定性 ≤2W
电源保护设置 直流过流保护、功率放大器过温保护、反射功率保护
冷却法 空气冷却

配置功能可选

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