立式管式炉
定制立式管式炉此款立式管式炉为客户定制款，主要应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
立式流化床管式炉KJ-V1200是一种立式流化床管式炉，专为固体气相沉积的CVD实验而设计。 炉管为高纯石英异形，炉管内嵌有石英网固定。 粉末 2 从管顶部进料到该筛网上。 另一个网片固定在活动法兰架部分上。 然后通入氮气和乙炔，将粉体1气体吹过上面的网孔，到达涂层反应区，将粉体2颗粒吹入反应区进行沉积实验。
1000度立式管式炉该立式管式炉采用炉管垂直放置、炉膛加热丝环形分布的结构设计，可应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。设备可在气氛状态、真空状态下运行，也可作为普通管式炉使用，适用于高校实验室及科研院所等单位。
（不锈钢炉管）立式管式炉主要适用于大专院校实验室、工矿企业实验室，用于金属、陶瓷等的化学分析、物理测定、烧结溶解、小型刚性零件的加热、焙烧、热处理等。
流化床立式管式炉KJ-T1200-V60是一款流化床立式管式炉，专门针对粉末表面沉积的CVD实验，炉管为高纯石英异形管，炉管内部嵌有一多孔石英板，石英板的孔径为0.2mm.粉末可放在多孔石英板上，气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。
1200℃立式管式炉应用于小型钢件的淬火、退火、回火热处理，以及立式CVD镀膜等。
双温区立式管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
催化剂流化床管式炉炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管为不锈钢金属管，立式开启式炉门结构，磨损管更换方便，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
管式淬火炉用于实验室研究材料相变和微结构性能。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
