立式管式炉
温度范围
1100°C 1400°C 1700°C
开门方式
侧开门/上开门/下开门/底部升降式/台车式
工艺应用
烧结/钎焊/退火/回火/热处理
加热元件及温区
电阻丝/硅碳棒/硅钼棒
单温区/多温区
炉膛尺寸
标准型/非标定制型
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以卓越的产品与解决方案为纽带，构建了一个横跨产学研、贯通海内外的全球合作生态网络，为前沿科研与尖端制造提供坚实支撑。
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1600℃小型立式高温管式炉KJ-T1600-S5006LK1-L立式管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1200℃立式管式气氛炉KJ-T1200-S5010LK1-L立式管式气氛炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。