多温区管式炉
1400℃三温区真空气氛管式炉KJ-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
1400℃双温区真空管式气氛炉KJ-T1400-L6008LB2双温区管式气氛炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
1200℃双温区高温管式电阻炉KJ-T1200-60-S6008LK2双温区真空气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
1200℃五温区开启式管式电阻炉KJ-T1200-S8014LK5五温区开启式管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
1200℃三温区管式气氛炉KJ-T1200-S6012LK3三温区管式气氛炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，可处理直径小于270mm的半导体样片。主要应用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境. 是各大材料实验室常备的理想设备之一。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
