多温区管式炉
双炉管四温区管式炉该设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境，应用在半导体，纳米技术、碳纤维等新型材料新工艺领域。主要应用于企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。
1200°C三温区真空管式炉可供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用应用于半导体，纳米技术、碳纤维等新型材料新工艺领域，也可用于CVD镀膜。
1400度管式炉这款高温管式炉可以抽真空通气氛，真空度可达20pa，该设备是专门为需要特殊热处理工艺的材料而设计。
带混气系统三温区管式炉 KJ-T1200 CVD是具有80mm直径氧化铝管真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的管式炉，它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
1400℃五温区管式炉 本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、气氛烧结、真空退火﹑物质成分测量分析而研制的专用理想设备。
触屏三温区管式炉三温区开启式管式炉，每个温区分别由三个独立温控系统单独控制，通过调节各个温区的温度来应用不同的实验场景。
三聚氰胺管式炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，三聚氰胺、尿素等化学实验的烧结分析，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
1600℃三温区管式高温炉KJ-T1600-L6012LB3三温区真空气氛管式炉可以在热梯度下制备功能材料，该设备主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
1600℃双温区高温气氛管式炉KJ-T1600-L60LB2双温区高温气氛管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
