真空管式炉
1100℃真空管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测定等场合。
1000℃真空粉末处理炉该真空管式炉日常工作温度是1000度，炉膛采用氧化铝纤维衬里，智能控温，操作简单，智能化程度高。主要应用于晶体退火、电子照明、二维材料烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测定等领域。
真空气氛管式炉KJ-TG600系列真空气氛管式炉工作温度区间450℃至500℃，可抽真空和充入各种保护气体或破坏性气体等特点，广泛用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产。
定制真空管式炉此款管式炉采用双层壳体结构，30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用高纯氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，两端用不锈钢法兰密封，可选用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的专业设备。
高温管式真空炉该真空管式炉主要应用于晶体退火、电子照明、二维材料烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测定等领域。
多温区真空管式炉多温区真空管式炉既可以制造出真空实验环境，也可以通入保护气氛，还可以直接在空气环境下使用，具有多种使用方法和适用场景，适用于高等院校、科研院所、工矿企业实验室等进行各种实验，尤其适用于真空高温烧结、材料热处理、质量检测等实验。
单温区真空管式炉单温区真空管式炉既可以制造出真空实验环境，也可以通入保护气氛，还可以直接在空气环境下使用，具有多种使用方法和适用场景，适用于高等院校、科研院所、工矿企业实验室等进行各种实验，尤其适用于真空高温烧结、材料热处理、质量检测等实验。
迷你真空管式炉迷你真空管式炉既可以制造出真空实验环境，也可以通入保护气氛，还可以直接在空气环境下使用，具有多种使用方法和适用场景，适用于高等院校、科研院所、工矿企业实验室等进行各种实验，尤其适用于真空高温烧结、材料热处理、质量检测等实验。
四通道真空管式炉该四通道管式炉可广泛应用于在真空或者气氛保护环境下对材料进行烧结或者退火等处理，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测的合适产品。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
