管式炉
1000℃真空粉末处理炉该真空管式炉日常工作温度是1000度，炉膛采用氧化铝纤维衬里，智能控温，操作简单，智能化程度高。主要应用于晶体退火、电子照明、二维材料烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测定等领域。
1100℃真空管式炉主要用于制备稀土、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等工业真空烧结、保护气氛烧结、真空沉积、CVD实验、材料成分测定等场合。
实验型流化床管式炉适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、二维材料生长、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
迷你型立式管式炉广泛应用于高等院校，科研院所，工矿企业等实验
(含预热炉)三温区旋转管式炉整个系统由一个立式管式炉和一个石墨密封设计的主旋转管炉组成，气体进出口配有相关阀门，用户可以从预热炉和主管炉收集气体。
大管径管式炉在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结等热处理。
1300℃多工位管式炉科佳KJ-TD1200-S80LK1W多工位真空管式炉在使用过程中可水平或者垂直调整工位，根据需求炉管可进行360度旋转，大大提高了其使用性能。可通气氛抽真空，满足多样化实验需求。
（炉管可更换式）高温回转炉此旋转管式炉在使用过程中，可根据需求更换炉管，炉管可选-可采用氧化铝陶瓷管（工作温度≤1300℃），碳化硅管（工作温度≤1300℃）和石英石管(工作温度≤1100℃）。炉体采用氧化铝多晶纤维材料，温场均衡，双层炉壳，配有风冷系统，可快速升温；炉体可倾斜0-10°(按钮控制)，炉管可360度旋转。
1600℃高温立式管式炉1600℃高温管式炉广泛应用于各种反应温度在1600℃左右的CVD实验；还可用于真空烧结、气氛保护真空烧结、电池材料、纳米相关材料的制备等。
温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
