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精密陶瓷真空烧结炉

精密陶瓷真空烧结炉

型号:KJ-V1200-LV

简介:主要用于主要用于精密陶瓷、特种陶瓷材料、钨钼难熔金属、金属基粉末冶金制品等的烧结和热处理,如光学膜才,钨钼坩埚,单晶硅、多晶硅,红宝石等的真空烧结。被广泛应用于热传导、热机械、敏感传感器、光学领域、医疗领域及新能源等领域。

产品简介

主要用于主要用于精密陶瓷、特种陶瓷材料、钨钼难熔金属、金属基粉末冶金制品等的烧结和热处理,如光学膜才,钨钼坩埚,单晶硅、多晶硅,红宝石等的真空烧结。被广泛应用于热传导、热机械、敏感传感器、光学领域、医疗领域及新能源等领域。

性能特点

  • 设计合理
  • 保温节能
  • 触屏操作

优化设计的中间隔热门,定位准确,动作重复性好,保证加热室与冷却室之间不串气

配置高性能的保温材料,保温效果好,降低电能消耗

触摸屏操作,可显示和监控设备运行状态,可调用、编辑和存储工艺程序库,存储和导出数据

技术参数

技术参数

产品型号 KJ-V1200-LV
最高温度(℃) 1200℃
极限真空度 10pa、 6.7×10-3pa
加热元件 合金电阻带
温度均匀性(℃) ±5--±10℃
加热速率 0-20℃/min
可选工作区尺寸(mm) 450*350*300
600*400*400
750*500*500
900*600*600
更多规格要求可定制

配置功能可选

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