真空炉
1000℃真空热压炉适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型。如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难容金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅和氮化硅的高温烧结，也可用于粉末和压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。
外热式升降真空炉 该真空炉使用硅钼棒为加热元件，工作温度高达900℃。采用底部升降结构，炉门可以平行移动，方便客户取放物料。该设备结合了真空/大气和高温加热，适用于粉末冶金和功能陶瓷等新材料的高温热成型，以及透明陶瓷、工业陶瓷和其他金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结。
2000℃石墨真空炉石墨真空炉广泛用于金属材料在高真空、保护气氛下的热处理，也可用于碳化纤维等具有优异隔热性能的特殊材料的热处理。
温度范围
1100°C 1400°C 1700°C
开门方式
侧开门/上开门/下开门/底部升降式/台车式
工艺应用
烧结/钎焊/退火/回火/热处理
加热元件及温区
电阻丝/硅碳棒/硅钼棒
单温区/多温区
炉膛尺寸
标准型/非标定制型
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