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实验室小型回转窑

实验室小型回转窑

型号:KJ-T1000-R200

简介:它是在高达 1000°C 的各种气体气氛中进行样品退火、扩散和烧结的高温热处理设备。

产品简介

它是在高达 1000°C 的各种气体气氛中进行样品退火、扩散和烧结的高温热处理设备。

性能特点

  • 双层壳体上开启结构
  • 双温区独立控制加热
  • 炉管可旋转
  • 控温精度可达±1℃

双层壳体上开启结构,取放炉管方便,装有风冷系统,炉子外壳温度保持在安全范围,安全系数高。

采用双温区独立控制加热,每区多段程序控温系统,移相触发、可控硅控制。

炉体可倾斜,炉管可按顺时针、逆时针方向旋转,可根据被处理的产品的形状、材料、温度来选择合适的旋转速度。

控温系统采用PID方式调节,可以设置30段升降温程序,控温精度可以达到±1℃。

技术参数

技术参数

产品型号 KJ-T1000-R200
显示 LED
工作温度 ≤1000℃
升温速率 0-20℃/min
温区 双温区
加热区长度 400+400mm, 一共 800mm
(可根据客户需求定制)
炉管直径 中心直径200mm,两侧直径80mm
(可根据客户需求定制)
加热元件   硅碳棒
温度控制精度   ±1℃
管转速 0 - 10RPM 可变
倾斜角度   0-15°
热电偶   N 型
炉管材质 不锈钢管
腔体材料 氧化铝纤维
密封法兰 -左侧法兰带KF50磁流体密封和出口阀;
-右侧法兰带KF25磁性流体密封和进气阀,机械压力表。
极限真空度:-0.1Mpa
真空泵 旋片真空泵
包括波纹管和真空泵配件
流量:6L/S
温度控制器 30步可编程PID数字控制器
 


配置功能可选

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