性能特点
- 更好的沉积效率
- 所需温度更低
- 成品质量好
PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性
PECVD对于化学气相沉积需要比普通CVD更低的温度
具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
技术参数
技术参数
| 型号 | KJ-PECVD-LM | |
| 管式炉部分 | 显示 | 触摸屏 |
| 连续工作温度. | ≤1100℃第一温区 ≤1100℃第二温区 ≤1600℃第三温区 |
|
| 升温速率 | 建议: 0~10℃/min | |
| 温区 | 220mm+220mm+220mm (其他尺寸可根据客户需求定制) |
|
| 加热元件 | 硅碳棒和硅钼棒 | |
| 热电偶 | N型和B型 | |
| 温度控制精度 | ±1℃ | |
| 炉管尺寸 | 直径:80 *长度:1600mm (其他尺寸可根据客户需求定制) |
|
| 材料:氧化铝管 | ||
| 温度控制 | 通过SCR功率控制的PID自动控制 | |
| 倾斜功能 | 0-15度 (不建议在1100C温度下使用倾斜功能,因为硅钼棒加热元件可能容易损坏。高温时会变软,请注意。) |
|
| 加热曲线 | 30步可编程 | |
| 真空法兰 | 带阀门的不锈钢真空法兰 右侧法兰为滑动式。 法兰应为水冷式。 |
|
| 等离子射频 |
功率范围 | 0-300W(连续可调) |
| 控制模式 | 手动 | |
| 工作频率 | 13.56MHz | |
| 报警保护 | 直流过载保护、直流/放大器过热保护、反射功率保护、匹配超时保护 | |
| 射频输出阻抗接口(50Ω) | N型 | |
| 功率稳定性 | ≤ 1 W | |
| 最大反射功率 | 200 W | |
| 真空泵系统 | 分子泵系统 | 极限真空:6.7*10-3Pa。 包括数字真空计 |
| 质量流量计 (LCD触摸屏) |
六个精密质量流量计: MFC精度为:±1.5%F.S。 |
|
| 液体蒸气发电机 | 包括自动液体蒸汽发生器,并连接到ALD阀 | |
| 17MHZ超声波雾化 |
配超声波雾化器,液体可雾化成液体颗粒并引入管式炉。 •液体罐标配不锈钢,并用氟橡胶密封件密封; •雾化量大小可控制; |
|
| 液体注入系统 | •一套用于自动液体供给的标准液体注入泵 •注射泵配有注射器,用于容纳液体; •注射泵速度可调节 |
|
| 水冷却器 | 用于冷却水冷法兰和真空泵。 | |




获取报价
18137195607



温度范围
开门方式
工艺应用
加热元件及温区
炉膛尺寸
