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石墨烯生长炉PECVD设备

石墨烯生长炉PECVD设备

型号:KJ-T1200-S60LC-H2

简介:KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成。可适用于石墨烯生长等

产品简介

KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制备机是由KJ-T1200开启式滑轨管式炉、真空系统、质量流量计气路系统、等离子电源系统组成。可适用于石墨烯生长等

性能特点

  • 成品质量好
  • 更好的沉积效率
  • 真空可达10Pa

具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性

真空系统由旋片真空泵和数显真空计组成,最高真空可达10Pa

技术参数

技术参数

产品名称 石墨烯生长炉PECVD设备
开启式滑轨管式炉部分
产品型号 KJ-T1200-S60LC-H2
炉管尺寸 直径60mm*长度1600mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
加热区长度 300mm(其他尺寸可根据客户需求定制)
工作温度 ≤1100℃
最高温度 1200℃
温控方式 N型热电偶
控制方式 温度控制系统采用触屏操作,人工智能调节技术,具有 PID 调节、自整定功能并可编制 30 段升降温程序;
控温精度 ±1℃
温控保护 具有超温和断偶保护功能
升温速率 建议≤10℃/min
加热元件 含钼电阻丝
炉膛材料 氧化铝多晶纤维
密封系统 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,气密性好。
炉体结构 滑轨结构,可以实现快速降温
炉  管 石英炉管
                     真空系统部分
名称 真空系统
主要参数
采用旋片真空泵和数显真空计组成,真空度可达10Pa
名称 四路质量流量计
主要参数 四通道精密质量流量计:触屏控制,数字显示。
进出气口:4进1出
等离子电源部分
名称 500W等离子电源
功率范围 0-500W(连续可调)
工作频率 13.56MHZ+0.005%
冷却方式 风冷
售后服务 整机质保一年,终身保修(加热元件、密封圈等随机赠送配件不属于质保范围)

配置功能可选

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