产品简介

该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）、石墨烯材料等。

性能特点

炉管采用定制变径炉管，管壁内带有石英拨料台，让物料受热更充分。炉管360℃旋转，旋转速度可调

PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点

温控系统采用PID智能化程序控温，自整定功能并可编制多段升降温程序

产品名称	定制旋转PECVD系统
滑轨管式炉部分
产品型号	KJ-T1200-S80-DZPECVD-R
炉管尺寸	直径80*长度1600mm 可选其他直径Φ50，60，80，100，120，150mm （其他尺寸可根据客户需求定制）
炉管材质	石英管
加热区	单温区，温区长度400mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
工作温度	≤1100℃
最高温度	1200℃
温控方式	N型热电偶
控制方式	触屏控制
控温精度	±1℃
温控保护	具有超温和断偶保护功能
升温速率	建议≤10℃/min
加热元件	含钼电阻丝
炉膛材料	氧化铝多晶纤维
法兰接头	标配配有不锈钢真空法兰，已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统	该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸，磁流体密封，气密性好可实现炉管旋转过程中的高真空。
真空系统部分
主要参数	采用高真空分子泵组，炉管内真空度可达10-3pa
气路系统部分
名称	四路质量流量计（量程可选）
等离子电源部分
功率范围	0-500W（连续可调）
售后服务	质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等及人为损坏不属于质保范围）
更多规格可根据客户需求定制