产品简介

该设备适用于CVD工艺，主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。

性能特点

控温系统采用PID方式调节，多段"时间—温度曲线"任意可设，可编程30步

双层壳体立式可开启结构，取放炉管方便，装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内

不锈钢金属法兰，带阀门和相关接口，拆装方便，可抽真空，同时连接3种气源至微正压

设备名称	立式CVD系统
设备型号	KJ-TCVD1100-S40CK2
流化床管式炉部分
最高温度	1200 ℃
工作温度	≤1100℃
显示	LCD触摸屏
管径	外径40mm*长度1100mm（其他尺寸可按客户需求定制）
管材	高纯石英管
加热元件	优质电阻丝
加热速率	0~10℃/min
温度控制	•多段"时间—温度曲线"任意可设，可编程30步 •触屏多段智能PID程序控温，烧结数据可记录并以excel形式导出 •内置超温和热电偶故障保护
热电偶	N型热电偶测温
密封方式	定制不锈钢真空法兰一套含密封
炉膛	双层钢制外壳，带双冷却风扇，双温区立式开启结构，取放炉管方便炉膛材质为氧化铝耐火纤维，保温节能
真空法兰	带阀门的不锈钢真空法兰
供气系统：3路质量流量控制系统
气体通道	可同时连接3种气源至微正压
流量计	质量流量计（可选其他量程）
气路压力	-0.1～0.15 MPa
截止阀	不锈钢材质
气路连接管	1/4不锈钢管
真空泵+真空计系统
真空泵	真空泵配硅胶软管可快速置换炉管内气体