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大口径CVD管式炉

大口径CVD管式炉

型号：KJ-T1200-CVD

简介：包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

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产品简介

包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。也可用于：真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

性能特点

  • 双层壳体上开启结构
  • 30段高精度可编程温控
  • 触屏操作简单快捷

双层壳体上开启结构，取放炉管方便，装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围内

控温系统采用PID方式调节，30段高精度数字可编程温度控制器

采用触屏操作系统，数据可存储可通过EXCEL输出

技术参数

技术参数

 型号 KJ-T1200-CVD
显示 液晶显示屏
第一部分 管式炉部分
炉膛 分体式和上部可以打开
最高工作温度 1100°C
加热速率 建议：0~10℃/ min
加热温区 500mm（其他尺寸可根据客户需求定制）
加热元件 钼电阻丝
温度控制精度 ±1℃
炉管尺寸 外径200mm *长度1200mm
（其他尺寸可根据客户需求定制）
温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器
第二部分 混气系统 
流量计 LCD触摸屏
更多规格可根据需求定制

 

配置功能可选

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